共焦磁控濺射系列

                        共焦的幾何結(jié)構(gòu)允許使用較小尺寸的靶材,使設(shè)備非常適合工藝開發(fā)和研發(fā)生產(chǎn)。

                        共焦結(jié)構(gòu)可提高膜層的均勻性、工藝多功能性。

                        具備多種選件以擴(kuò)展相應(yīng)能力的應(yīng)用。

                        應(yīng)用于航天、微電子、傳感器、汽車、光學(xué)及能源等領(lǐng)域。