水平磁控濺射系列

                              工藝多功能性,具備多種選件以擴展相應能力, 非常適合研發(fā)和生產。

                              用于直徑4、5、6及8英寸基片進行金屬、氧化物、氮化物工藝。 

                              應用于航天、微電子、傳感器、汽車、光學及能源等領域。